年线争夺战将打响 挖掘20只牛股潜力无限(9)

　　　　苏大维格:微纳制造蓝图初绘,价值仍被低估

　　苏大维格 300331

　　研究机构：东吴证券 分析师：黄海方 撰写日期：2013-09-06

　　本篇是对我们深度报告《微纳孕育真蓝图》(2012年11月27日)的一个补充和完善。继公司既有产品镭射包装材料、公共安全防伪材料和超薄导光膜之后,公司进军非ITO柔性透明导电膜,且具备了提供柔性透明导电膜顶尖解决方案的能力。我们认为公司微纳创新平台的价值将逐步体现,并朝着微纳制造产业孵化器逐步迈进。本篇我们将从柔性导电膜技术及其产业化出发,进一步对公司微纳制造平台和孵化器的属性进行阐述。

　　微纳制造平台优势进一步强化。非芯片级高精度光掩膜版等产品的推出,更体现了公司基于激光光刻和微纳压印等平台技术的领先制造功力。另一方面,纳米协同创新中心成立,公司微纳制造的平台优势将随着中心这个大平台的稳步建设以及公司业内独家的国家地方联合工程中心的建设进一步得以强化。

　　柔性透明导电膜是近期最大看点。2013年7月3日,公司获得透明导电膜专利授权(CN102063951B),一举奠定了公司在中大尺寸触屏用透明导电膜的领先地位。公司基于纳米压印技术的银网格透明柔性导电膜MetalMesh具备低方阻、柔性、高透光性等特点,相较于其他MetalMesh方案,公司产品实现电路一次成型,无需黄光工艺,在中大尺寸导电膜材料应用上预期成本更有优势。我们认为,公司的透明导电膜解决方案是目前顶尖的非ITO导电膜方案。

　　公司将在13年下半年实现MetalMesh产品量产,我们看好公司相关业务的爆发。